一種樣本容器保持機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)用于具有光學(xué)物鏡和掃描探針顯微鏡(SPM)頭的倒置顯微鏡。倒置顯微鏡包括用于支撐樣本容器的平臺(tái)，在該平臺(tái)中形成孔，孔的尺寸設(shè)置成為倒置顯微鏡的物鏡提供從下方接近樣本容器通道。保持機(jī)構(gòu)提供在平臺(tái)中形成的真空區(qū)域，真空區(qū)域與真空發(fā)生器氣壓地連接。在真空區(qū)域中建立真空防止或顯著減少樣本容器底面在SPM頭的操作頻率范圍內(nèi)的振蕩。

1.一種用于倒置顯微鏡的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，所述倒置顯微鏡具有光學(xué)物鏡和掃描探針顯微鏡(SPM)頭，所述掃描探針顯微鏡頭包括配置用于執(zhí)行所述樣本容器中樣本的掃描的掃描探針顯微鏡探針和控制系統(tǒng)，所述掃描探針顯微鏡頭使用所述控制系統(tǒng)可操作地產(chǎn)生所述掃描探針顯微鏡探針的受控運(yùn)動(dòng)，所述受控運(yùn)動(dòng)在操作帶寬內(nèi)跟蹤所述樣本的表面，所述樣本容器保持機(jī)構(gòu)包括：用于支撐所述樣本容器的平臺(tái)，所述平臺(tái)提供表面，在所述掃描探針顯微鏡頭操作期間所述樣本容器定位在所述表面上；在所述平臺(tái)中形成的孔，所述孔的尺寸設(shè)置成為所述倒置顯微鏡的所述物鏡提供從下方接近所述樣本容器的通道；以及至少一個(gè)真空區(qū)域，所述至少一個(gè)真空區(qū)域具有包括所述樣本容器的底面和所述平臺(tái)的所述表面的邊界，所述至少一個(gè)真空區(qū)域中的每一個(gè)與真空發(fā)生器氣壓地連接，以通過所述真空發(fā)生器的操作促進(jìn)所述真空區(qū)域內(nèi)的工作真空；其中所述至少一個(gè)真空區(qū)域包括定位為鄰近所述孔的至少一部分，以在所述掃描探針顯微鏡頭操作產(chǎn)生所述運(yùn)動(dòng)期間，所述工作真空使得所述樣本容器的所述底面與所述操作帶寬內(nèi)由所述掃描探針顯微鏡探針的所述受控運(yùn)動(dòng)所產(chǎn)生的任何聲學(xué)激勵(lì)隔離。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述至少一個(gè)真空區(qū)域包括定位為鄰近所述孔的內(nèi)密封件和定位為相對遠(yuǎn)離所述孔的遠(yuǎn)端密封件，所述內(nèi)密封件和所述遠(yuǎn)端密封件各自被設(shè)置用于保持與所述樣本容器的底面的緊密接觸以封閉所述真空區(qū)域。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述至少一個(gè)真空區(qū)域是單個(gè)真空區(qū)域，所述單個(gè)真空區(qū)域在與所述表面平行的參考平面中具有環(huán)形橫截面。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述至少一個(gè)真空區(qū)域中的每一個(gè)包括真空通道，所述真空通道在與所述表面平行的參考平面中具有環(huán)形橫截面。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述內(nèi)密封件和所述遠(yuǎn)端密封件中的至少一個(gè)包括O形圈。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述內(nèi)密封件和所述遠(yuǎn)端密封件中的至少一個(gè)包括在所述平臺(tái)上形成的加工表面。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述遠(yuǎn)端密封件包括單個(gè)連續(xù)密封件。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述內(nèi)密封件位于與穿過所述孔的中心并且沿著所述物鏡的光軸定向的參考中心軸線相距固定徑向距離處。9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述內(nèi)密封件位于與穿過所述孔的中心并且沿著所述物鏡的光軸定向的參考中心軸線相距最大徑向距離處，所述最大徑向距離不大于所述孔的半徑的一半。10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述內(nèi)密封件位于與穿過所述孔的中心并且沿著所述物鏡的光軸定向的參考中心軸線相距最大徑向距離處，所述最大徑向距離不大于所述孔的半徑的20％。11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述內(nèi)密封件位于與穿過所述孔的中心并且沿著所述物鏡的光軸定向的參考中心軸線相距最大徑向距離處，所述最大徑向距離不大于所述孔的半徑的10％。12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述內(nèi)密封件相對于穿過所述孔的中心并且沿著所述物鏡的光軸定向的參考中心軸線與所述孔的半徑對齊。13.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述遠(yuǎn)端密封件位于與穿過所述孔的中心并且沿著所述物鏡的光軸定向的參考中心軸線相距固定徑向距離處。14.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述遠(yuǎn)端密封件位于與穿過所述孔的中心并且沿著所述物鏡的光軸定向的參考中心軸線相距最小徑向距離處，所述最小徑向距離是所述樣本容器的半徑的至少90％。15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述平臺(tái)被設(shè)置成使所述樣本容器底面包括非真空區(qū)域邊界的至少一個(gè)部分，所述至少一個(gè)部分中的每一個(gè)在面積上小于所述孔的面積。16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述至少一個(gè)真空區(qū)域包括在所述平臺(tái)中形成的多個(gè)真空通道，所述多個(gè)真空通道包括定位為鄰近所述孔的第一組真空通道。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述至少一個(gè)真空區(qū)域進(jìn)一步包括第二組真空通道，所述第二組真空通道在相鄰的真空通道和所述樣本容器的周邊之間具有最大間距，所述最大間距小于所述孔的直徑。18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述至少一個(gè)真空區(qū)域包括多個(gè)真空通道，所述多個(gè)真空通道在所述平臺(tái)中形成并且彼此隔開比所述孔的直徑小的距離。19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中在所述掃描探針顯微鏡頭操作期間，所述工作真空的建立使所述樣本容器底面的共振頻率高于所述掃描探針顯微鏡探針的所述受控運(yùn)動(dòng)的所述操作帶寬。20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述樣本容器是培養(yǎng)皿。21.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述倒置顯微鏡的所述物鏡具有大于0.2的數(shù)值孔徑。22.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其中所述倒置顯微鏡的所述物鏡具有大于0.5的數(shù)值孔徑。23.一種倒置顯微鏡，包括：光學(xué)物鏡；掃描探針顯微鏡(SPM)頭，所述掃描探針顯微鏡頭包括掃描探針顯微鏡探針，所述掃描探針顯微鏡探針配置用于執(zhí)行對樣本容器中的樣本的掃描，所述掃描探針顯微鏡探針在工作頻率范圍內(nèi)可操作地產(chǎn)生具有振蕩分量的運(yùn)動(dòng)；樣本容器保持機(jī)構(gòu)，其包括：用于支撐樣本容器的平臺(tái)，所述平臺(tái)提供表面，在所述掃描探針顯微鏡頭操作期間所述樣本容器位于所述表面上；在所述平臺(tái)中形成的孔，所述孔的尺寸被設(shè)置成為所述倒置顯微鏡的所述物鏡提供從下方接近所述樣本容器的通道；以及至少一個(gè)真空區(qū)域，所述至少一個(gè)真空區(qū)域具有包括所述樣本容器的底面和所述平臺(tái)的所述表面的邊界，所述至少一個(gè)真空區(qū)域中的每一個(gè)與真空發(fā)生器氣壓地連接，以通過所述真空發(fā)生器的操作促進(jìn)所述真空區(qū)域內(nèi)的工作真空；其中所述至少一個(gè)真空區(qū)域包括定位為鄰近所述孔的至少一部分，以在所述掃描探針顯微鏡頭操作產(chǎn)生所述運(yùn)動(dòng)期間，所述工作真空使得所述樣本容器的所述底面與在所述操作帶寬內(nèi)由所述掃描探針顯微鏡探針的受控運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生的任何聲學(xué)激勵(lì)隔離。