本發明涉及一種熱處理裝置，能夠在同時對分別載置在多個基座上的基板進行加熱時，控制各基板的面內溫度的均勻性。該熱處理裝置包括：對多枚晶片實施規定處理的反應管(104)；分別具有載置晶片的載置面的、由導電性材料構成的多個基座(112)；將各基座在與其載置面垂直的方向隔開間隔地排列并支撐在反應管內的、旋轉自由的石英舟(110)；在處理室的側壁上設置的、在與各基座的載置面平行的方向上形成交流磁場而對各基座進行感應加熱的由一對電磁鐵(120、130)構成的磁場形成部；和對利用該磁場形成部形成的交流磁場加以控制的控制部(200)。

1.一種熱處理裝置，其特征在于，包括：
處理室，對多個基板實施規定的處理；
多個基座，其由導電性材料構成，并分別具有載置所述基板的載
置面；
基座支撐部，將所述各基座在與其載置面垂直的方向上隔開間隔
地排列并支撐在所述處理室內，并旋轉自由；
磁場形成部，其包括：在具有兩個磁極的磁芯上纏繞有感應線圈
的一對電磁鐵；和對各電磁鐵的感應線圈獨立地施加交流電流的交流
電源，該磁場形成部設置在所述處理室的側壁上，在與所述各基座的
載置面平行的方向上形成交流磁場而對所述各基座進行感應加熱；和
控制部，控制所述交流電源。
2.如權利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于：
所述各電磁鐵分別設置在所述處理室的側壁中相對的一對側壁
上，一個的電磁鐵的兩個磁極面與另一個的電磁鐵的兩個磁極面分別
按照夾著所述各基座的周邊部而相對的方式分開配置，
所述控制部對所述交流電源進行控制，由此獨立地控制施加到所
述各電磁鐵的感應線圈上的交流電流。
3.如權利要求1所述的熱處理裝置，其特征在于：
所述各電磁鐵分別按照橫跨所述處理室的側壁中相對的一對側壁
的方式加以設置，
所述各電磁鐵的兩個磁極面分別按照夾著所述各基座的周邊部而
相對的方式分開配置，
所述控制部對所述交流電源進行控制，由此獨立地控制施加到所
述各電磁鐵的感應線圈上的交流電流。
4.如權利要求2或3所述的熱處理裝置，其特征在于：
所述控制部，通過將對從所述各交流電源向所述一對電磁鐵供給
相同相位的交流電流的控制和對從所述各交流電源向所述一對電磁鐵
施加相反相位的交流電流的控制進行切換，由此控制所述基座的面內
的溫度分布。
5.如權利要求2或3所述的熱處理裝置，其特征在于：
沿著所述基座和所述基板的排列方向配置多段所述磁場形成部。
6.如權利要求5所述的熱處理裝置，其特征在于：
所述控制部對所述各磁場形成部的交流電源進行獨立控制。
7.如權利要求1～3任一項所述的熱處理裝置，其特征在于：
所述基座由石墨構成，所述處理室的側壁由非鐵金屬材料構成。
8.如權利要求7所述的熱處理裝置，其特征在于：
所述處理室的側壁由鋁構成。
9.如權利要求2或3所述的熱處理裝置，其特征在于：
所述各電磁鐵的磁芯由陶瓷類材料構成。
10.如權利要求9所述的熱處理裝置，其特征在于：
所述各電磁鐵的磁芯由鐵素體類陶瓷構成。
11.如權利要求1～3任一項所述的熱處理裝置，其特征在于：
包括：
氣體供給部，向所述處理室內供給處理氣體；和
排氣機構，對所述處理室內進行真空排氣，其中
所述處理室實施對成膜有金屬膜的所述各基板進行的熱處理或者
在所述各基板上形成金屬膜的熱處理。